從出水水質(zhì)和運(yùn)行參數(shù)控制兩方面,對(duì)高純水設(shè)備中的EDI模塊受化學(xué)污染情況進(jìn)行了試驗(yàn)研究。結(jié)果表明,根據(jù)產(chǎn)水電導(dǎo)率的變化可判斷出EDI模塊的結(jié)垢初始點(diǎn),且化學(xué)污染主要發(fā)生在陽(yáng)離子樹(shù)脂上;為有效控制化學(xué)污染,應(yīng)選擇適當(dāng)?shù)倪M(jìn)水流量和操作電流(以產(chǎn)水電導(dǎo)率0.2μS/cm為控制指標(biāo),該試驗(yàn)裝置的*佳流量和電流分別為162 L/h和2 A)。另外,通過(guò)正交試驗(yàn)確定了EDI模塊的*優(yōu)清洗方案,即用2%的HCl清洗30 min,并浸泡2 h。