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      高純水設(shè)備在電去離子過程中水解離的基本特征
      
 
      時(shí)間：2014-09-04　作者：admin　點(diǎn)擊：372次
      
 
       通過考察高純水設(shè)備的EDI膜堆由非穩(wěn)態(tài)到穩(wěn)態(tài)的過程中濃水電導(dǎo)率的變化規(guī)律以及處于穩(wěn)態(tài)條件下的V—I特性曲線 ,探討EDI過程水解離的基本特征 .研究表明 ,在膜堆內(nèi)部離子一旦發(fā)生定向遷移 ,在樹脂表面水界面層中就會(huì)形成較高的電勢(shì)梯度 ,引起水的解離 ,而且在高電流密度下 ,高純水設(shè)備的淡室中離子交換膜表面水界面層也會(huì)發(fā)生水解離。
      
 
      
 
      
 
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