傳統(tǒng)的去離子水設(shè)備主要采用陰陽離子交換脫鹽工藝，本處理工藝手段單一，流程簡單，造價相對較低；但其缺點也相當(dāng)突出：運行操作復(fù)雜，人力成本高，不容易實現(xiàn)自動化，浪費酸堿，運行成本高等缺點。
近年來，隨著RO反滲透、高純水設(shè)備等工藝的發(fā)展，高純水設(shè)備在去離子水設(shè)備中的應(yīng)用得到廣泛的推廣，目前去離子水設(shè)備工藝逐漸主流采用RO+高純水設(shè)備+精混處理，可以穩(wěn)定制取高純水質(zhì)。
去離子水設(shè)備主體工藝：原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級RO反滲透→PH值調(diào)節(jié)→中間水箱→二級高壓泵→二級RO反滲透→純水水箱→高純水設(shè)備水泵→高純水設(shè)備系統(tǒng)→拋光混床→微孔過濾器→用水點→回至純水水箱
去離子水設(shè)備的應(yīng)用領(lǐng)域：
☆電路板的生產(chǎn)和清洗
☆超純材料和超純試劑的生產(chǎn)和清洗
☆半導(dǎo)體電子產(chǎn)品的生產(chǎn)和清洗
☆電池產(chǎn)品的生產(chǎn)
☆特殊行業(yè)高、精、尖產(chǎn)品的生產(chǎn)和清洗
☆制藥行業(yè)診斷試劑等產(chǎn)品的生產(chǎn)