在一些供水系統(tǒng)中，電滲析設(shè)備是被常常采用的一種處理設(shè)備，在供水模式，水由單元外殼中所包括的、即使不是所有各種也是其間至少一種的水處理介質(zhì)來(lái)處理，之后，水從單元閥門(mén)中排出，用于供水運(yùn)用。此外，供水排出量可調(diào)整，以便由用戶(hù)按需求支配已處理的水。例如，當(dāng)人們要從水噴頭喝水時(shí)，向上允許喝水，或者向下流入龍頭下面的容器及類(lèi)似物。束流和噴霧模式也是有用的，例如碟子的浸泡或生果蔬菜的洗刷，在后面這兩種模式中，水穿過(guò)外殼中的至少一種水處理介質(zhì)。在電滲析設(shè)備處理自來(lái)水以制備超純水時(shí)，取決于未凈化水的類(lèi)型在未充沛除掉硼的情況下可能不能充沛獲得超純水的水質(zhì)。甚至在這種情況下，運(yùn)用使用所述硼選擇性的離子交流樹(shù)脂的離子交流設(shè)備對(duì)經(jīng)電除鹽設(shè)備處理的水進(jìn)行后處理。但是，該處理存在經(jīng)濟(jì)問(wèn)題，例如所述離子交流設(shè)備的規(guī)劃增大和所述離子交流樹(shù)脂的再生頻率和交流頻率增加。經(jīng)電滲析設(shè)備處理的水為自半導(dǎo)體工廠 排出的排水，測(cè)得該排水中的溶解氧濃度為0ppm。工作該試驗(yàn)設(shè)備3天等待水 質(zhì)的穩(wěn)定，測(cè)得微納米泡生成狀態(tài)確認(rèn)槽13的出口處的被處理水的溶解氧濃 度為6ppm。